生活 热氧化物在硅片制造的四种用途 来源:趣秒懂 3.23W 1、金属层间绝缘阻挡层:用做金属连线间的保护层。2、注入屏蔽氧化层:用于减小注入够到和损伤。3、势氧化层:做氧化硅缓冲层以减小应力。4、掺杂阻挡层:作为掺杂或注入杂质到硅片中的掩蔽材料。 硅片 氧化物