为什么中国生产不了光刻机

因为在研制光刻机上技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索尼都亏损严重，中国也在此方面有长期投入，目前我们还在追赶，量产的是上海微电子的90纳米的，离ASML的10纳米的差距很大。

拓展知识：光刻机又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵。